EDI1000设计终端产水量为1m³/H，产水水质电阻率≥15MΩ/CM （25℃），主要由预处理系统、RO 系统、EDI系统抛光、混床系统和控制系统组成。适用于电子半导体封装、实验室分析、医药制剂、精细化工、SIP清洗、PCBA清洗等对水质要求严苛的领域。

技术特点：

1. 24小时自动运行，连续产水。

2. 2级RO+EDI+树脂工艺。

3. 超纯水水质，，适合半导体产品高洁净度要求。

4. 产水水质长期稳定在电阻率≥15MΩ/CM。

5. 各部分自动检测，自动运行保护，低能耗。

6. 控制和产水部分都放置在框架内，便于运输和安装。

7. 模组化设计，后续保养，维护和耗材更换更方便。

8. 产水率50%。

9. 配合我公司PCBA在线清洗机和半导体封装清洗机使用。